Basic HTML Version
180
Vývoj podniku po roce 1989
Od roku 2006 do současnosti
Vypravěčem této etapy jsem vlastně z nouze. Bez dalších vysvětlení nezbývá než konstatovat, že přes pokračující bo-
hatý život společnosti se nenašlo dosti entuziasmu pro popsání běhu věcí přímými účastníky. Je nutné vycházet toli-
ko z faktografie či stále vydávaného firemního časopisu ONás.
Pro poslední roky je charakteristická stále kratší perioda krizového cyklu polovodičového průmyslu. Každý krizový
cyklus přináší stupňující tlaky na redukci nákladů a inovaci výrobků. V této situaci je nepochybně mimořádným úspě-
chem rožnovského týmu, že si vydobyl postavení, kterému v rámci koncernu poskytuje prostor pro další rozvoj a vývoj
technologií i výrobníchkapacit.Vpolovině roku, pomnohaletémúsilí, jekonečněpřijatovedenímkorporace rozhodnutí
o financování přechodu na 6 palcovou technologii v Rožnově. Definitivně je schválen projekt vývoje nového procesu
ON 50 navrženého v rožnovském vývoji. Proces je určen pro nejrozšířenější produkty, u kterých je žádoucí dosáhnout
předstihu před konkurencí jak v technických parametrech, tak nákladech.
V srpnu byla vyrobena pětimiliontá Si deska od roku 1992 a ve výrobě čipů bylo dosaženo výkonu 19 000 desek týdně.
Přechod na technologie výroby čipů využívající průměry desek 6 palců přináší zcela nová technologická zařízení. Pře-
chod na nové technologie neobnáší jen pouhou výměnu zařízení. Jedná se o organizačně složitý sled rekonstrukcí
výrobních prostor, přemísťování celých bloků pracovišť, budování nových čistých prostor vyšší kategorie čistoty.
I v roce 2007 pokračují nikdy nekončící úpravy pracovišť a nakonec se z objektu M1 vedle kanceláří stěhují i další
výrobní operace do objektu M8. Poprvé rožnovská továrna získává schopnost pracovat se submikronovými techno-
logiemi, zdokonaluje se infrastruktura společnosti (například dálková doprava chemikálií, počítačové řízení procesů
„on-line“ a další).
V polovině dubna je slavnostně zakončeno několikaleté společné úsilí Ústavu fyziky pevných látek MÚ Brno a spo-
lečnosti ON Semiconductor. Do zkušebního provozu je slavnostně uvedena polovodičová laboratoř s technologií da-
rovanou naší společností. Na závěr roku je na mezinárodním poli oceněna dlouholetá spolupráce s organizací CERN.
Průmyslová cena udílená mezinárodní organizací CERN byla udělena za podíl na přípravě projektu ATLAS dodávkami
speciálně vyrobených čipů, tzv. pixelových detektorů.
Rok 2008 je další z řady odbytově velmi obtížných. Vedení korporace vedeno snahou o posílení konkurenční schop-
nosti přistupuje k další náročné finanční operaci. Součástí společnosti ON Semiconductor se stává společnost AMIS
a její návrhové středisko se sídlem v Brně, které je vzápětí přejmenováno na ON Design Czech. Restrukturalizační úsilí
se dotýká i vrcholového vedení společnosti v Rožnově, z vedení odchází designovaný ředitel M. Mandracchia a říze-
ním výroby v ČR je pověřen Aleš Cáb.
Středisko jaderného výzkumu CERN v Ženevě uvedlo do zkušebního provozu urychlovač částic velkých energií LHC
(součást projektu ATLAS). V detektoru ATLAS jsou použity zmíněné pixelové detektory vyrobené v Rožnově.
Probíhá konverze veškeré výroby čipů na technologii 6 palců. Rychlost realizace tohoto projektu je tlumena další od-
bytovou krizí. Dokladem hloubky odbytové krize je pokles výroby čipů na pouhých 8 000 desek týdně. I následující
rok pokračoval vyhlášením dalších úsporných opatření. Ještě v prosinci byl stav zaměstnanců snížen o 50 a na dobu
trvání krize byl omezen fond pracovní doby, stejně jako mzdy redukce fondu pracovní doby dosáhla 20 %. Důsledkem
úsporných opatření bylo také zrušení tradičních akcí pro zaměstnance – Family Day a firemního plesu. Společnost po-
zastavila sponzorování.
Pokračují přestavby pracovišť, obnova technologického vybavení a přejímání dalších výrobků, mimo jiné z uzavíraného
závodu v Piešťanech na Slovensku. V roce 2010 je opět dosaženo růstu produkce na rekordní úroveň. Linka na výrobu
čipů zpracovává 25 000 4“ ekvivalentních desek za týden a výroba leštěných Si desek dosáhla hranice 30 000 6“ týdně.
Téměř celý rok 2011 je ve znamení rychlého rozvoje schopností společnosti. V říjnu je definitivně ukončena výroba
čipů na deskách o průměru 4“. Ve výrobě křemíku probíhá projekt zvýšení kapacity výroby Si desek 6“ z 32 000 týdně
na 63 000 desek týdně do května 2012. Současně je zaváděna výroba Si desek o průměru 8“. Významně roste počet